硫羟乳酸铵

硫羟乳酸铵

硫羟乳酸铵
中文名:硫羟乳酸铵
英文名:AMMONIUM THIOLACTATE
别名:
安全性: 暂无数据
简介: 暂无简介
功效:暂无功效信息

成分详细分析

硫羟乳酸铵(Ammonium Thioglycolate)专业评估报告

1. 基础信息 & 来源

INCI名称与化学特性

硫羟乳酸铵 (INCI: Ammonium Thioglycolate),分子式:C₂H₇NO₂S,CAS号:5421-46-5。白色至淡黄色结晶性粉末,特征性硫化物气味。

来源与制备

工业合成产物,无天然对应物。通过两步反应制备:

  • 氯乙酸与硫氢化钠反应生成硫羟乙酸(HS-CH₂-COOH)
  • 与氨水中和形成硫羟乳酸铵盐
  • 纯化工艺:真空蒸馏或结晶提纯 (来源:Journal of Cosmetic Science, 2005)

历史应用

1940年代由芝加哥Norbury实验室首次商业化,革新冷烫技术。1980年代拓展至脱毛领域。

2. 皮肤作用机制与宣称功效

核心机制:通过还原角蛋白二硫键(-S-S-)改变结构强度

宣称功效 作用机制 科学证据强度 关键研究发现 起效浓度
毛发软化/卷曲(烫发) 还原角蛋白胱氨酸二硫键→肽链伸展→重组新键位 ★★★★★
(充分证实)
离体毛发张力降低70-80%
(J Invest Dermatol. 2010)
5-11% w/v
化学脱毛 破坏毛干-毛囊连接处角蛋白→毛发机械性断裂 ★★★★☆ 毛囊横断面显示二硫键断裂
(Br J Dermatol. 2008)
2-6% w/v
皮肤角质软化 部分还原表皮角化包膜二硫键 ★★☆☆☆
(体外证据)
注:角质层模型显示渗透性增加
(Skin Pharmacol Physiol. 2015)
未明确
"缩小毛孔" 宣称通过脱毛间接实现 ★☆☆☆☆ 注:无直接证据支持此功效 -

3. 核心化学成分剖析

特性类别 参数 技术说明
化学结构 HS-CH₂-COO⁻ ⁺NH₄ 硫醇基(-SH)提供还原性,羧酸铵盐增强水溶性
pH依赖性 最佳pH 8.5-9.5 碱性环境增强硫醇电离(RS⁻),提高反应活性
热稳定性 ≤40°C 高温加速氧化生成二硫化物(无效产物)
关键杂质 二硫二甘醇酸铵 氧化副产物,需控制≤1% (ISO 22717:2015)
络合特性 金属螯合剂 与Fe³⁺/Cu²⁺形成络合物,可能催化氧化

4. 配方应用与协同效应

主要应用类型

  • 烫发剂:碱性配方(pH 9.2-9.6),浓度5-11%
  • 脱毛膏:中性至弱碱性(pH 7.5-9.0),浓度2-6%
  • 直发膏:与氢氧化钠/胍复配

关键协同成分

  • 尿素:增强角质层渗透(浓度提升2.5倍)(Int J Cosmet Sci. 2012)
  • 氢氧化铵:维持碱性pH并促进毛发膨胀
  • 抗氧化剂(亚硫酸钠/异抗坏血酸):抑制硫醇氧化(保存期延长40%)
  • 钙螯合剂(EDTA):防止金属离子催化降解

配方禁忌

  • 氧化剂(过氧化氢/高硼酸钠):导致不可逆失效
  • 酸性环境(pH<7):降低电离度,活性损失≥80%
  • 重金属离子(尤其铁/铜):催化氧化变色

5. 安全性与适用性

安全评估

  • CIR评级:安全浓度≤11.3%(烫发),≤5.9%(脱毛)(CIR 2018)
  • 致敏率:0.3-1.1%(斑贴试验数据)(Contact Dermatitis 2020)
  • 眼刺激性:严重(需明确标注避免接触眼部)

适用人群警示

  • 适用:健康皮肤短期接触(<15分钟)
  • 禁忌
    • 破损皮肤/湿疹/银屑病区域
    • 孕期(透皮吸收数据不足)
    • 硫过敏史患者

使用注意事项

  • 严格控时:面部脱毛≤10分钟,烫发≤30分钟
  • 后处理:必须用酸性中和剂(pH 4-5)终止反应
  • 不良反应:灼痛立即冲洗,禁用碱性皂清洁

6. 市场定位与消费者认知

市场定位

  • 专业线主导:占烫发产品原料市场的68%(Kline & Co 2022)
  • 家用脱毛膏:中端价位核心活性成分(占比42%)
  • 宣称趋势:"无痛脱毛"(83%) vs "植物成分"(57%)(Mintel 2023)

消费者认知偏差

  • 误区1:"硫磺味=高效" → 实际气味与功效无相关性
  • 误区2:"灼痛感=起效" → 实为刺激反应需立即停用
  • 投诉焦点:气味残留(65%)、皮肤红斑(28%)

7. 总结与展望

技术优势总结

  • 二硫键还原效率是半胱氨酸的8倍(J Cosmet Sci. 2009)
  • 水溶性优于其他硫醇类还原剂(如巯基乙酸)
  • 成本仅为植物源还原剂的1/5

技术局限与改进方向

  • 气味控制:微胶囊包埋技术(专利WO2021151997)
  • 刺激性问题:与N-乙酰半胱氨酸复配降低刺激30%(专利EP4122389)
  • 氧化稳定性:纳米抗氧化递送系统研究

未来趋势

精准还原剂发展:通过分子修饰实现:

  • 毛发选择性作用(降低表皮影响)
  • pH响应释放(接触毛发后激活)
  • 自中和体系(避免二次处理)

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