巯基乙酸酯类

巯基乙酸酯类

巯基乙酸酯类
中文名:巯基乙酸酯类
英文名:THIOGLYCOLLIC ACID ESTERS
别名:硫代乙醇酸酯类
安全性: 暂无数据
功效:暂无功效信息

成分简介

巯基乙酸酯类是一种化学化合物,在护肤和化妆品中主要用于脱毛和烫发产品。其核心作用是通过还原毛发角蛋白中的二硫键,破坏毛发结构,使毛发变软、易于去除或重塑。在脱毛膏中,它能温和分解毛发,减少刮除时的刺激;在烫发剂中,则帮助改变头发形状,实现卷曲或拉直效果。需要注意的是,这类成分可能引起皮肤过敏或刺激,... 展开阅读

成分详细分析

化妆品成分科学评估报告:巯基乙酸酯类 (Thioacetic Acid Esters)

1. 基础信息 & 来源

INCI名称与常见代表物

  • 主要INCI名称: Glyceryl Thioglycolate, Ethyl Thioglycolate, Glyceryl Monothioglycolate
  • 化学类别: 有机硫化合物 (Organosulfur compounds)

天然来源与工业制备

巯基乙酸酯类为完全合成化合物,自然界不存在直接对应物。工业制备通过巯基乙酸与醇类(如甘油、乙醇)的酯化反应实现:

HS-CH₂-COOH + R-OH → HS-CH₂-COOR + H₂O (反应需酸性催化剂与严格控制的水分含量)

历史应用背景

1950年代首次引入化妆品领域,作为传统巯基乙酸盐(碱性烫发剂)的替代品,核心突破在于:

  • 中性至弱酸性pH条件下保持活性
  • 降低对头皮的刺激性和气味问题
  • 实现更可控的二硫键还原过程

2. 皮肤作用机制与宣称功效

宣称功效 作用机制 科学证据强度 关键研究发现简述 起效浓度范围
头发角蛋白二硫键还原
(烫发核心功能)
巯基(-SH)攻击胱氨酸的二硫键(S-S),形成半胱氨酸和混合二硫键,使角蛋白结构可重塑 ★★★★☆
(充分证实)
体外角蛋白溶解实验显示:在pH6.5-8.0时,60℃下8.5% Glyceryl Thioglycolate可在10分钟内断裂>90%二硫键 (J Cosmet Sci, 2004) 5-12% (烫发产品)
0.5-2% (脱毛产品)
脱毛作用 通过还原角蛋白二硫键弱化毛干结构,使其易被机械移除 ★★★☆☆
(临床证实)
离体皮肤测试显示:含8.5%酯类的乳膏作用10分钟可使毛发拉伸强度降低70% (Dermatitis, 2010) 5-10%
宣称:皮肤更新促进 理论上可能通过角质层二硫键断裂影响脱屑,但无直接证据 ★☆☆☆☆ 注:此宣称缺乏临床研究支持,现有机制研究仅限于毛干角蛋白 N/A

3. 核心化学成分剖析

化合物类别 代表物质 分子结构特征 理化性质 配方中功能角色
甘油单巯基乙酸酯
(主要应用形式)
Glyceryl Thioglycolate
(INCI)
HS-CH₂-COO-CH₂-CH(OH)-CH₂OH • 淡黄色粘稠液体
• 水溶性良好
• pKa≈7.9 (弱酸性)
• 氧化敏感性高
• 中性烫发还原剂
• 脱毛活性成分
短链烷基酯 Ethyl Thioglycolate HS-CH₂-COO-CH₂-CH₃ • 挥发性液体
• 特征性硫气味
• 皮肤渗透性强
• 快速渗透型还原剂
• 需严格浓度控制

关键化学特性

  • 还原动力学:反应速率受pH显著影响,最适pH 6.5-8.5 (甘油酯),比巯基乙酸盐(pH9.2+)更温和
  • 氧化敏感性:暴露于空气中易氧化成二硫化物,需配方中添加亚硫酸盐等抗氧化剂
  • 金属螯合:可结合铜/铁离子导致溶液变色,需添加EDTA衍生物

4. 配方应用与协同效应

主要应用类型

  • “冷烫”中性烫发剂 (pH 6.5-7.5):占市场主流,Glyceryl Thioglycolate为核心还原剂
  • 脱毛膏/乳:与钙盐增稠剂配合,浓度通常5-10%
  • 直发膏还原步骤:辅助碱性还原剂增强作用

关键协同成分

  • 尿素/胍类:增强角蛋白溶胀,促进巯基渗透 (协同增效15-30%)
  • 亚硫酸钠/异抗坏血酸:防止活性成分氧化失效
  • 脂肪酸醇酰胺:降低刺激性同时维持还原效率
  • 阳离子聚合物:烫发后中和步骤中修复二硫键

配方技术难点

• 稳定性控制:需严格隔绝氧气,包装需含内胆隔离
• pH平衡:超出7.5-8.0范围将导致过度损伤或无效
• 气味掩蔽:需复合环糊精包合与香精技术

5. 安全性与适用性

权威安全评估

  • CIR结论:Glyceryl Thioglycolate在烫发产品中≤8.7%、脱毛产品≤5%浓度下使用是安全的 (CIR, 2014)
  • 欧盟SCCS:脱毛产品限用浓度2%,烫发剂需标注“含巯基乙酸酯” (Regulation No 1223/2009)

主要风险因素

风险类型 机制 预防措施 高危人群
接触性皮炎 IV型过敏反应,半抗原与皮肤蛋白结合 • 使用前48小时斑贴试验
• 避免头皮接触
美容师职业暴露者
(发生率8-15%)
头发损伤 过度还原导致角蛋白水解 • 严格控制作用时间
• 添加角蛋白保护剂
漂染后发质
潜在基因毒性争议 体外Ames试验阳性结果,但体内研究未证实 遵守浓度限值 N/A

使用禁忌

  • 绝对禁忌:破损皮肤、头皮损伤、已知过敏史
  • 相对禁忌:孕期(穿透性未充分研究),儿童(12岁以下)

6. 市场定位与消费者认知

产品定位分析

  • 高端沙龙烫发产品:占比约70%市场份额,强调“温和”、“无氨味”
  • 居家烫发套组:浓度通常较低(5-7%),操作简易性优先
  • 敏感肌脱毛膏:对比传统巯基乙酸钙,宣称“低刺激”

消费者认知误区

  • 误区1:“植物来源”宣称 → 实际为全合成成分
  • 误区2:“无损烫发” → 任何二硫键断裂均造成可测损伤 (SEM显示毛小皮剥离)
  • 正确认知:比传统碱烫损伤度降低30-40%,但仍需强化护理

7. 总结与展望

技术优势总结

  • 实现了接近中性的烫发pH环境,显著降低头皮刺激
  • 比传统巯基乙酸盐的气味控制更优
  • 染后发质的损伤可控性更好

技术局限与挑战

  • 高致敏性仍是职业暴露的主要问题
  • 粗硬发质的还原效率不足
  • 氧化稳定性差导致配方成本高

未来研究方向

  • 分子修饰:开发聚乙二醇化衍生物降低致敏性
  • 递送系统:脂质体包封控制释放速率
  • 替代技术:半胱氨酸酶生物还原剂的商业化应用
  • 精准诊断:开发快速过敏原检测试剂盒

结论声明:巯基乙酸酯类作为二硫键还原剂,在专业烫发领域具有不可替代的地位。其安全性在规范浓度下可被接受,但需严格管控职业暴露风险。未来技术升级需聚焦于过敏原性降低与作用精准性提升。

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